Mientras ASML mantiene una posición prácticamente incontestable en el mercado de la litografía EUV, Nikon ha decidido centrar su estrategia en otro frente: el segmento ArF immersion. La compañía japonesa busca recuperar terreno entre grandes fabricantes de semiconductores apostando por una fórmula mucho más simple que una revolución tecnológica: ofrecer equipos más económicos.
Según información publicada por Nikkei Asia, Nikon ya mantiene conversaciones con importantes productores de chips de Estados Unidos y Asia para promover una alternativa más competitiva frente a las soluciones de ASML. El objetivo no es sustituir la litografía EUV, sino ganar cuota en una tecnología que sigue siendo fundamental para numerosos procesos avanzados de fabricación, especialmente en escenarios que recurren al multiple patterning, memorias de alta densidad y diseños tridimensionales cada vez más complejos.
La principal carta de Nikon es el escáner NSR-S636E, equipado con una fuente de luz de 193 nm, una apertura numérica de 1,35, resolución de hasta 38 nm, un error de superposición (overlay MMO) de 2,1 nm y una capacidad de producción de al menos 280 obleas por hora. Además, la compañía asegura que este sistema ofrece entre un 10 % y un 15 % más de productividad respecto a generaciones anteriores, algo que podría traducirse en menores costes operativos para las fábricas.
Aun así, el desafío para Nikon sigue siendo enorme. Aunque consiga atraer algunos contratos en el mercado ArF immersion, ASML conserva el control absoluto de la litografía EUV, una tecnología imprescindible para los nodos de fabricación más avanzados. La empresa neerlandesa continúa reforzando su posición con equipos como el NXT:2100i, diseñado para mejorar la precisión entre procesos DUV y EUV.
La competencia tampoco se limita a Nikon. Canon intenta abrirse camino con su propuesta basada en nanoimprint lithography, una tecnología que promete estructuras de 14 nm comparables a procesos de clase 5 nm, aunque por ahora sigue considerándose una alternativa experimental frente a la fotolitografía tradicional.
En este contexto, la estrategia de Nikon podría aumentar la presión sobre los precios de los equipos utilizados por las fundiciones de semiconductores. Sin embargo, aunque la competencia beneficie a los fabricantes, no significa que productos finales como smartphones o tarjetas gráficas vayan a abaratarse de forma inmediata. El verdadero impacto estaría en la reducción gradual de los costes de producción dentro de la industria.
Fuente: Nikkei Asia, Nikon, ASML, Canon
